紫外光電子能譜

　　標準分類中，紫外光電子能譜涉及到分析化學、電學、磁學、電和磁的測量、光學和光學測量、無損檢測、有色金屬、電子元器件綜合。

　　在中國標準分類中，紫外光電子能譜涉及到基礎標準與通用方法、綜合測試系統、電子光學與其他物理光學儀器、化學、化學助劑基礎標準與通用方法、光學測試儀器、貴金屬及其合金、重金屬及其合金、標準化、質量管理。

　　市場監督管理總局、中國標準化管理委員會，關于紫外光電子能譜的標準

　　GB/T 36401-2018 表面化學分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結果的報告

　　質檢總局，關于紫外光電子能譜的標準

　　GB/T 36401-2018 表面化學分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結果的報告

　　GB/T 31472-2015 X光電子能譜中荷電控制和荷電基準技術標準指南

　　GB/T 31470-2015 俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應樣品區域的通則

　　GB/T 30704-2014 表面化學分析 X射線光電子能譜 分析指南

　　GB/T 30702-2014 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實驗測定的相對靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南

　　GB/T 29556-2013 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定

　　GB/T 28893-2012 表面化學分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強度的方法和報告結果所需的信息

　　GB/T 28892-2012 表面化學分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數的表述

　　GB/T 28633-2012 表面化學分析.X射線光電子能譜.強度標的重復性和一致性

　　GB/T 28632-2012 表面化學分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定

　　GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量 X射線光電子能譜法

　　GB/T 25185-2010 表面化學分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報告

　　GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則

　　GB/Z 32490-2016 表面化學分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序

　　中華人民共和國質量監督檢驗檢疫總局、中國標準化管理委員會，關于紫外光電子能譜的標準

　　GB/T 33502-2017 表面化學分析 X射線光電子能譜(XPS)數據記錄與報告的規范要求

　　英國標準學會，關于紫外光電子能譜的標準

　　BS ISO 14701-2018 表面化學分析. X射線光電子能譜學. 二氧化硅厚度測量

　　BS ISO 18554-2016 表面化學分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序

　　BS ISO 19830-2015 表面化學分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的低報告要求

　　BS ISO 17109-2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

　　BS ISO 17109-2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

　　BS ISO 16531-2013 表面化學分析.深度剖析.在光電子能譜(XPS)和原子發射光譜(AES)的深度剖析中離子束校準和電流或電流密度的相關測量用方法

　　BS ISO 16531-2013 表面化學分析.深度剖析.在光電子能譜(XPS)和原子發射光譜(AES)的深度剖析中離子束校準和電流或電流密度的相關測量用方法

　　BS ISO 16243-2011 表面化學分析.X射線光電子能譜術(XPS)的記錄和報告數據

　　BS ISO 16243-2011 表面化學分析.X射線光電子能譜術(XPS)的記錄和報告數據

　　BS ISO 14701-2011 表面化學分析.X射線光電子能譜學.二氧化硅厚度測量

　　BS ISO 14701-2011 表面化學分析.X射線光電子能譜學.二氧化硅厚度測量

　　BS ISO 10810-2010 表面化學分析.X射線光電子能譜法.分析指南

　　BS ISO 10810-2010 表面化學分析.X射線光電子能譜法.分析指南

　　標準化組織，關于紫外光電子能譜的標準

　　ISO 15470-2017 表面化學分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數說明

　　ISO 15470-2017 表面化學分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數說明

　　ISO 18554-2016 表面化學分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序

　　ISO 19830-2015 表面化學分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的低報告要求

　　ISO 17109-2015 表面化學分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

　　ISO 16531-2013 表面化學分析.深度剖析.原子發射光譜(AES)和光電子能譜(XPS)中深度剖析用電流或電流密度的離子束校正和相關測量方法

　　ISO 16243-2011 表面化學分析.X射線光電子能譜術(XPS)的記錄和報告數據

　　ISO 14701-2011 表面化學分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量

　　ISO 10810-2010 表面化學分析.X射線光電子能譜學.分析導則

　　ISO/TR 19319-2003 表面化學分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區域和樣品區域的目視檢測

　　日本工業標準調查會，關于紫外光電子能譜的標準

　　JIS K0152-2014 表面化學分析. X射線光電子能譜分析. 強度標的重復性和一致性

　　JIS K0152-2014 表面化學分析. X射線光電子能譜分析. 強度標的重復性和一致性

　　JIS K0167-2011 表面化學分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學.勻質材料定量分析用實驗室測定相對敏感因子的使用指南

　　法國標準化協會，關于紫外光電子能譜的標準

　　NF X21-073-2012 表面化學分析.X射線光電子能譜術(XPS)的記錄和報告數據

　　NF X21-071-2011 表面化學分析.X射線光電子能譜法.分析用導則

　　NF X21-058-2006 表面化學分析.俄歇電子能譜學和X射線光電子光譜法.測定峰強度使用的方法和報告結果時需要的信息

　　美國材料與試驗協會，關于紫外光電子能譜的標準

　　ASTM E995-2011 在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應用背景消除技術的標準指南

　　ASTM E996-2010 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數據的標準規程

　　ASTM E996-2004 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數據的標準規程

　　ASTM E996-1994(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數據報告的標準規程

　　行業標準-有色金屬，關于紫外光電子能譜的標準

　　YS/T 644-2007 鉑釕合金薄膜測試方法 X射線光電子能譜法 測定合金態鉑及合金態釕含量

　　韓國標準，關于紫外光電子能譜的標準

　　KS D ISO 19319-2005 表面化學分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區域和樣品區域的目視檢測

　　KS D ISO 19319-2005 表面化學分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區域和樣品區域的目視檢測

　　KS D 2518-2005 鎘光電子能譜分析法

　　KS D 2518-2005 鎘光電子能譜分析法